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DWL 8000激光直写系统  
DWL 8000激光直写系统
DWL 8000 精确的温度控制、动态的焦点追踪、closed loop 位置决定,确保完美布置和完全覆盖性的直写范围。搭配海德堡的精密软件控制可以让您在大面积范围中,也可以瞄写 2维和 3维图形新的 DWL 8000 系列,是针对微光学领域的2维和 3维的微构造形式所制作。
DWL 4000激光直写系统  
DWL 4000激光直写系统
DWL 4000 产品线包括两种模式,DWL 4000DD 和 可处理更高效能的 DWL 4000FBM。此系统可适用于客制化的激光设备,几乎任何光阻剂都可曝光。让您的制版作业更加得心应手,激光功率不再是您需要担忧的问题。
DWL 2000激光直写系统  
DWL 2000激光直写系统
高速、高灵活度,可自动加载基板,也可装载部分其它系统DWL2000 激光掩模板绘图机高速且灵活的机台;在制作掩模板和无掩模激光直写上拥有高分辨率模组生成程序。直写范围可达 200 mm × 200 mm2。
DWL 66+激光直写系统  
DWL 66+激光直写系统
研究开发用的激光无掩模直写制程系统:DWL 66+ 以低价格实现高分辨率,能于立体构造上进行 3维的绘画方式 。DWL 66+ 适用于掩模板的试制和直接进行描写的研究开发。低价格且高分辨率的激光图形直写系统。最大基板尺寸为 9" × 9",最小绘画尺寸 0.6μm 。能作出复杂的立体构造进行 3维的绘画。 DWL 66+ 的基本顾客,包括全球超过 150 家以上的顶尖大学和研究机构。